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本发明提供一种气体分析装置，其具备：气室，其被导入气体；温度调节块，其对气室进行温度调节；以及压力传感器，其测定气室内部的压力，压力传感器内置于温度调节块和/或气室。压力传感器内置于温度调节块和/或气室。压力传感器内置于温度调节块和/或气室...
该专利属于株式会社堀场STEC所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社堀场STEC授权不得商用。

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