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本发明提供一种光刻显影方法，包括以下步骤：提供一经曝光后的目标结构，目标结构包括半导体衬底以及位于半导体衬底之上的光刻胶层；在光刻胶层之上形成润湿层，润湿层为去离子水与显影液的混合；向覆盖有润湿层的光刻胶层的表面喷洒显影液，使显影液覆盖在光...
该专利属于物元半导体技术（青岛）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过物元半导体技术（青岛）有限公司授权不得商用。

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