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一种待XPS能谱分析的样品和分析定位方法技术
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文档序号：38000211
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本发明公开了一种待XPS能谱分析的样品和分析定位方法，样品包括待检测的平面，待检测的平面上包括待测区域和标记部；标记部为中心镂空结构的标记部，中心镂空结构的外边界位于待测区域外围，待测区域外边界至中心镂空结构的外边界之间的距离范围为10
该专利属于胜科纳米（苏州）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过胜科纳米（苏州）股份有限公司授权不得商用。
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