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本发明提供了一种雾化气相沉积装置和雾化气相沉积方法，所述雾化气相沉积装置包括沉积腔体；所述沉积腔体的底部设置有托盘，所述托盘的顶面位于所述沉积腔体的内腔中；所述沉积腔体的外侧壁设置有激光引入窗，所述激光引入窗远离所述沉积腔体的一侧设置有激光...
该专利属于青禾晶元（天津）半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青禾晶元（天津）半导体材料有限公司授权不得商用。

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