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本发明提供了一种包含超声波发生器的雾化气相沉积装置和雾化气相沉积方法。所述雾化气相沉积装置包括壳体；所述壳体包括依次连接的整流段、反应段和排出段，所述整流段具有气流收束结构，所述排出段具有气流发散结构，所述反应段的顶面设置有超声波发生器，所...
该专利属于青禾晶元（天津）半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青禾晶元（天津）半导体材料有限公司授权不得商用。

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