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公开了一种光刻设备。光刻设备包括：被配置为支撑衬底的衬底台；致动器，其可配置为在基本上平行于衬底的表面的平面中移动衬底台；投射系统，其被配置为用在扫描曝光方向上对准的场对衬底进行图案化；水平传感器，其被配置为使用多个测量点来感测衬底的高度；...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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