温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种掩模布局光学邻近校正(OPC)方法，包括：确定要在衬底上形成的目标图案；基于目标图案对光掩模布局进行仿真；向仿真的光掩模布局施加偏置，从而将光掩模布局校正为第一建模布局；选择通过使用分割掩模的布局进行建模而获得的控制参数中的一个控制参数...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。