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一种磁致伸缩多层膜直接磁性耦合制备方法，属磁敏感功能材料技术领域。（１）抛光预处理衬底；其衬底为可溶于蒸馏水的可溶性立方结构晶体；（２）利用高真空磁控溅射设备在衬底上依次溅射缓冲层、磁致伸缩复合层、保护层；上述磁致伸缩复合层为压磁材料层和反...
该专利属于南京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京航空航天大学授权不得商用。

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