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本公开提供了一种光刻胶层的处理方法及光刻胶层，处理方法包括：在目标层上形成光刻胶层，光刻胶层包括靠近目标层的第一部分以及远离目标层的第二部分；对光刻胶层进行第一曝光处理，在光刻胶层的第一部分形成曝光图像；采用第一工艺对光刻胶层的第二部分进行...
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