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本实用新型公开了一种水封清洗机构及晶圆清洗设备，所述水封清洗机构包括：水槽，所述水槽中容纳有清洗液；横移机构，位于所述水槽的一侧，用于带动晶圆盒在所述清洗液内横向移动；升降机构，位于所述水槽的另一侧，并与所述横移机构相对设置，用于带动晶圆盒...
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