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一种半导体器件可以包括：多个栅电极层，在垂直于衬底的上表面的第一方向上堆叠；多个沟道结构，穿透多个栅电极层，并沿第一方向延伸；多个第一隔离结构，沿平行于衬底的上表面的第二方向延伸，并将多个栅电极层划分为多个块；以及多个第二隔离结构，在多个块...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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