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本发明涉及一种光刻版及套刻对准方法，所述光刻版包括对位标记，所述对位标记包括：主对位图形；至少两个旋转判别图形，每个旋转判别图形均靠近所述主对位图形设置且位于第一区域，所述至少两个旋转判别图形包括偏转角的绝对值相同、方向相反的两个旋转判别图...
该专利属于无锡华润上华科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡华润上华科技有限公司授权不得商用。

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