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本发明提供了一种向光刻设备派送光罩的方法，包括：步骤S1：筛选出负载小于第一设定值的光刻设备或者筛选出光刻设备对应的高能量光罩和低能量光罩的比例达到第二设定值且负载小于第三设定值的光刻设备；步骤S2：从筛选出的光刻设备中选出负载最低的光刻设...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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