向光刻设备派送光罩的方法技术

本发明专利技术提供了一种向光刻设备派送光罩的方法，包括：步骤S1：筛选出负载小于第一设定值的光刻设备或者筛选出光刻设备对应的高能量光罩和低能量光罩的比例达到第二设定值且负载小于第三设定值的光刻设备；步骤S2：从筛选出的光刻设备中选出负载最低的光刻设备；步骤S3：根据生产计划要求和光罩的高低温要求评估光罩的生产要求紧急度；步骤S4：将紧急生产要求最高的光罩派送到负载最低的光刻设备。本发明专利技术将在向光刻设备派送光罩时将光罩的高低温要求考虑进去，从而将低能量光罩考虑到高温光刻设备的生产中，实现高能量光罩和低能量产品的交叉作业。从而提高了光刻设备的利用率，减少了机台的浪费和生产时间。少了机台的浪费和生产时间。少了机台的浪费和生产时间。

【技术实现步骤摘要】
向光刻设备派送光罩的方法


[0001]本专利技术涉及光刻设备
，尤其是涉及一种向光刻设备派送光罩的方法。

技术介绍

[0002]光刻产品，例如光罩，在生产中，可能需要经过多个光刻设备的工作才能完成，同时，一个光刻设备会对多个光刻产品进行处理。其中，一些光罩要求光刻设备时刻处于高温中才能生产，这些光罩可以称之为高能量光罩。一些光罩要求光刻设备时刻处于低温中才能生产，这些光罩可以称之为低能量光罩。
[0003]现有技术中，一般是高能量光罩一直在一个高温机台生产，低能量光罩一直在低温机台生产。
[0004]然而，有些机台并不能一直保持高温，在温度没有升到要求值时，无法对高能量光罩进行生产，导致该机台空闲，浪费机台和时间。同时，当高温机台长期处于高温时，可能对机器有一定的损坏，所以需要停顿一段时间，进而更导致了该机台空闲，浪费机台和时间。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种向光刻设备派送光罩的方法，可以光刻设备的温度没有达到高能量光罩所需的温度时生产低能量光罩，或者在高能量光罩生产间隙生产低能量本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种向光刻设备派送光罩的方法，其特征在于，包括：步骤S1：筛选出负载小于第一设定值的光刻设备或者筛选出光刻设备对应的高能量光罩和低能量光罩的比例达到第二设定值且负载小于第三设定值的光刻设备；步骤S2：从筛选出的光刻设备中选出负载最低的光刻设备；步骤S3：根据生产计划要求和所述光罩的高低温要求评估光罩的生产要求紧急度；步骤S4：将紧急生产要求最高的光罩派送到负载最低的光刻设备；步骤S5：按照所述光刻设备的紧急程度派送剩余的光罩。2.如权利要求1所述的向光刻设备派送光罩的方法，其特征在于，所述第一设定值为3小时。3.如权利要求1所述的向光刻设备派送光罩的方法，其特征在于，所述第二设定值为大于等于1以及小于等于1.6。4.如权利要求1所述的向光刻设备派送光罩的方法，其特征在于，所述第三设定值为5小时。5.如权利要求1所述的向光刻设备派送光罩的方法，其特征在于，获取紧急生产要求最高的光罩的方法包括：将所有光罩按照生产计划的优先级顺序从大到小进行排序；从排序后的光罩中筛选出生产计划中生产计划时间小于第四设定值的光罩，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉成，严甲武，程杰，朱兆亮，张晖，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：