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用于光学邻近校正(OPC)的方法，该方法可以包括：输入与要形成的目标层相对应的弯曲布局数据；基于弯曲布局数据执行曼哈顿化，并获取曼哈顿化数据；对曼哈顿化数据执行分段，并将曼哈顿化数据分解为多个数据分量；基于多个数据分量生成OPC模型，并对O...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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