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提供一种等离子体处理设备，其特征是通过限定电介质与缝隙之间的位置关系来极大地提高等离子体点火性和点火稳定性。等离子体处理设备（１１）包括：处理室（１２），其具有顶部开口；电介质（１５），在其底面上具有倾斜面（１６ａ和１６ｂ），使得厚度尺寸连...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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