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本实用新型涉及气相沉积镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸发装置及镀膜设备。该蒸发装置包括蒸发锅、补液组件以及载气组件，蒸发锅内沿其高度方向间隔设置有多个蒸发腔室，并且蒸发锅内部和各个蒸发腔室的外壁之间填充有均温液体，补液组件能够向每个蒸发腔室内通...
该专利属于青禾晶元（天津）半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青禾晶元（天津）半导体材料有限公司授权不得商用。

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