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本实用新型涉及热处理装置。谋求兼顾有效率地收集升华物和减少对膜厚分布的影响。热处理装置包括加热部、腔室、排气部、分隔部以及切换部。加热部支承形成有处理液的膜的基板并对其进行加热。腔室以包围支承于加热部的基板的方式配置。排气部从腔室内的空间经...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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