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用于低倾角沟槽蚀刻的薄遮蔽环制造技术
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文档序号:37679782
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一种用于衬底处理系统的薄遮蔽环包含环形主体,所述环形主体具有内直径和外直径。所述内直径和所述外直径限定所述环形主体的在所述内直径与所述外直径之间的横截面宽度。至少两个突出部从所述环形主体向外径向延伸。所述内直径与所述外直径之间的所述环形主体...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。
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