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基于多模式干涉的光谱量测系统和光刻设备技术方案
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下载基于多模式干涉的光谱量测系统和光刻设备的技术资料
文档序号:37677777
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一种量测系统包括:辐射源、光学元件、第一检测器及第二检测器、包括多模波导的集成式光学装置、以及处理器。辐射源产生辐射。光学元件朝向目标引导辐射以产生来自目标的散射辐射。第一检测器接收散射辐射的第一部分并且基于所接收的第一部分产生第一检测信号...
该专利属于ASML控股股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML控股股份有限公司授权不得商用。
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