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本发明属于电子化学品领域,具体涉及一种含碳膜层的清洗液及清洗方法。所述清洗液组成包括重铬酸盐、酸、氟化物、表面活性剂及超纯水。该清洗液可在有效去除晶圆表面的碳膜、碳氧化硅膜、碳氮化硅膜等含碳膜层的同时,不损伤硅晶圆表面,有利于晶圆的重复利用...该专利属于湖北兴福电子材料股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖北兴福电子材料股份有限公司授权不得商用。
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本发明属于电子化学品领域,具体涉及一种含碳膜层的清洗液及清洗方法。所述清洗液组成包括重铬酸盐、酸、氟化物、表面活性剂及超纯水。该清洗液可在有效去除晶圆表面的碳膜、碳氧化硅膜、碳氮化硅膜等含碳膜层的同时,不损伤硅晶圆表面,有利于晶圆的重复利用...