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半导体衬底的自动化抛光及清洁制造技术
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文档序号:37624783
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一种用于处理一组半导体晶片的半导体晶片处理系统包含:控制器;传送机器人,其由所述控制器控制;湿浴,其用于容纳清洁溶液;及匣,其定位于所述湿浴中用于固持所述一组晶片。所述传送机器人将所述晶片从传送位置传送到所述匣且所述控制器在所述传送期间控制...
该专利属于环球晶圆股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过环球晶圆股份有限公司授权不得商用。
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