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掩膜版数据生成方法、装置、设备及介质制造方法及图纸
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文档序号:37579005
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本公开是关于一种掩膜版数据生成方法、装置、设备及介质,掩膜版数据生成方法包括:基于半导体结构的初始图形数据,确定辅助图形数据;将初始图形数据和辅助图形数据合并,得到合并数据;对合并数据进行数据提取,确定出与半导体结构的各层别对应的初始层别图...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。
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