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本发明公开了一种p型氧化亚锡沟道薄膜晶体管的制备方法,采用电子束蒸发技术和快速热退火技术来制备p型导电的氧化亚锡沟道层。该制备方法简单可控,可实现低温制备;制得的晶体管具有较高的场效应迁移率,可用于有机发光二极管以及发展氧化物基低损耗补偿逻...该专利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院宁波材料技术与工程研究所授权不得商用。
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本发明公开了一种p型氧化亚锡沟道薄膜晶体管的制备方法,采用电子束蒸发技术和快速热退火技术来制备p型导电的氧化亚锡沟道层。该制备方法简单可控,可实现低温制备;制得的晶体管具有较高的场效应迁移率,可用于有机发光二极管以及发展氧化物基低损耗补偿逻...