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本发明公开了一种ITO蚀刻液和蚀刻液的制备及使用方法，其中铜缓蚀剂包括改性的苯并咪唑类化合物，该铜缓蚀剂可应用于ITO蚀刻液。该ITO蚀刻液针对双层/多层金属基材，其在蚀刻ITO时，不攻击上层的铜或铜镍合金，能够有效控制蚀刻速率、侧蚀、不易...
该专利属于广州微纳芯材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州微纳芯材料科技有限公司授权不得商用。

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