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公开了一种用于制造半导体装置的电子装置的操作方法。该操作方法包括：接收半导体装置的布局图像；通过基于布局图像的主要特征生成辅助特征来生成中间图像；通过基于中间图像执行仿真来评估处理结果；以及通过基于处理结果校正中间图像的主要特征的形状和/或...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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