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提供能够充分地抑制掩模上的雾度的产生的相移掩模坯、雾度缺陷少的相移掩模以及该相移掩模的制造方法。本实施方式涉及的相移掩模坯(10)是用于制作适用于波长为200nm以下的曝光光的相移掩模的相移掩模坯，具备基板(11)和形成在基板(11)上的相...
该专利属于凸版光掩模有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过凸版光掩模有限公司授权不得商用。

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