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本公开提供了一种单晶炉副室清洁装置及方法,该单晶炉副室清洁装置包括:基座;可轴向伸缩的伸缩杆,其包括轴向相对的顶端和底端,底端固定在基座上;驱动伸缩杆轴向伸缩的伸缩驱动部件,伸缩驱动部件连接至伸缩杆的底端;驱动伸缩杆旋转的旋转驱动组件,基座...该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。
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