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半导体存储器装置制造方法及图纸
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文档序号:37385596
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一种半导体存储器装置可包括第二导电类型的第一阱、第二导电类型的第三阱、第一导电类型的第二阱、浮置栅极和选择栅极。第一阱可包括第一有源区域。第三阱可包括第三有源区域。第二阱可布置在第一阱和第三阱之间。第二阱可包括第二有源区域。浮置栅极可与第一...
该专利属于爱思开海力士有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过爱思开海力士有限公司授权不得商用。
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