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本公开提供了一种清洗装置及其清洗方法，清洗装置包括：清洗腔室、气体发生器、固定组件、冷却组件和回收组件，清洗腔室内设有间隔设置的冷却区域、清洗区域和加热区域；气体发生器用于对加热区域升温并生成清洗气体；固定组件用于将半导体结构固定于清洗区域...
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