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本公开提供一种半导体结构的制作方法及半导体结构，半导体结构的制作方法包括，提供基底，基底内形成有沟道；形成栅极导电层，栅极导电层覆盖部分沟道；形成半导体掺杂层，半导体掺杂层填充沟道，且覆盖栅极导电层，半导体掺杂层靠近栅极导电层的顶面的一侧的...
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