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本申请公开一种清洗装置。所公开的清洗装置用于清洗晶圆夹持机构。所公开的清洗装置包括装置主体和调节件,装置主体设有进水口和与进水口连通的过水空间,调节件与装置主体相连,且调节件与装置主体形成水幕喷射缝隙,水幕喷射缝隙与过水空间连通;调节件可相...该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。
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本申请公开一种清洗装置。所公开的清洗装置用于清洗晶圆夹持机构。所公开的清洗装置包括装置主体和调节件,装置主体设有进水口和与进水口连通的过水空间,调节件与装置主体相连,且调节件与装置主体形成水幕喷射缝隙,水幕喷射缝隙与过水空间连通;调节件可相...