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包括多个沟道层的半导体器件制造技术
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下载包括多个沟道层的半导体器件的技术资料
文档序号:37346090
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本发明提供一种半导体器件,该半导体器件包括基板、在基板上的有源鳍和在有源鳍上的晶体管。该晶体管包括依次堆叠的下沟道层、中间沟道层和上沟道层以及栅极结构,该栅极结构横跨有源鳍,分别围绕沟道层并包括栅极电介质和栅电极。栅电极包括在有源鳍和下沟道...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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