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本实用新型的一种具有均匀气氛场的气相沉积装置，包括反应管、包裹反应管并对反应管内形成的反应腔室进行控温的炉膛以及用于密封反应管两端的密封装置A和密封装置B，所述密封装置A上带有向反应管供气的进气管，所述密封装置B上带有输出反应管中气体的排气...
该专利属于湖南大学所有，仅供学习研究参考，未经过湖南大学授权不得商用。

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