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本发明属于半导体制作方法技术领域。本发明提出一种光罩、光罩的制作方法及使用该光罩的图案形成方法，该光罩包括：基板；线条图案，其间隔形成于基板之上；基板具有透光区域，透光区域位于每两个相邻的线条图案之间；透光区域具有靠近其中一线条图案的第一侧...
该专利属于青岛物元技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛物元技术有限公司授权不得商用。

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