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本发明提供一种操作简单并且高效地进行通孔填充的方法,其特征在于,在对具有盲通孔的基板进行导电化处理之后,使用含有下述成分(A)~(E)的酸性铜镀浴进行电镀;(A)100~300g/L的硫酸铜;(B)30~150g/L的硫酸;(C)10~10...该专利属于荏原优莱特科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过荏原优莱特科技股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种操作简单并且高效地进行通孔填充的方法,其特征在于,在对具有盲通孔的基板进行导电化处理之后,使用含有下述成分(A)~(E)的酸性铜镀浴进行电镀;(A)100~300g/L的硫酸铜;(B)30~150g/L的硫酸;(C)10~10...