温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种半导体芯片标识的制作方法，包括如下步骤：在晶圆平面上制作脊型台面波导；生长绝缘层；在绝缘层上制作电流注入窗口及标识编码。本发明提供的方法制作芯片标识不需要增加工艺步骤及专门流程，在制作电流注入窗口的同时采用刻蚀法制作出芯片标...
该专利属于杭州楚芯光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州楚芯光电科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。