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本公开提供了一种半导体器件,包括半导体层,具有相对的第一表面与第二表面,半导体层包括第一掺杂区、第一阱区、第二阱区、第一源区以及第一漏区,第一阱区与第二阱区分别位于第一掺杂区的相对两侧,第一源区位于第一阱区中并暴露于第一表面,第一漏区位于第...该专利属于北京燕东微电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京燕东微电子科技有限公司授权不得商用。
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本公开提供了一种半导体器件,包括半导体层,具有相对的第一表面与第二表面,半导体层包括第一掺杂区、第一阱区、第二阱区、第一源区以及第一漏区,第一阱区与第二阱区分别位于第一掺杂区的相对两侧,第一源区位于第一阱区中并暴露于第一表面,第一漏区位于第...