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本发明提供一种GaN基垂直型肖特基二极管及其制备方法,方法包括:1)提供n型衬底;2)在n型衬底上形成n型GaN漂移层;3)在n型GaN漂移层中刻蚀出多个隔离槽结构,以隔离出多个n型GaN漂移区;4)在n型GaN漂移区的周侧注入第一缺陷离子...该专利属于东莞市中器集成电路有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东莞市中器集成电路有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种GaN基垂直型肖特基二极管及其制备方法,方法包括:1)提供n型衬底;2)在n型衬底上形成n型GaN漂移层;3)在n型GaN漂移层中刻蚀出多个隔离槽结构,以隔离出多个n型GaN漂移区;4)在n型GaN漂移区的周侧注入第一缺陷离子...