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文档序号:3730935
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一种于基材上填充导孔的方法,该方法包括:使该基材与金属电镀浴接触,并施予足够的电流密度以沉积所欲的金属层,其中该电流密度是以正向电流密度(F)进行1至50毫秒及逆向电流密度(R)进行0.2至5毫秒的周期来施予,其中F/R比率为1/1至1/1...
该专利属于希普利公司所有,仅供学习研究参考,未经过希普利公司授权不得商用。
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