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本发明公开了一种基底制程装置，其包括一个制程腔室，此制程腔室具有一个基底支座、一个气体配管、一个气体增能器、一个气体排出口。此装置亦具有一个制程监测器，是用来监测基底的第一区域上的图案，并产生一个第一信号，还用来监测基底的第二区域上的图案，...
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