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本实用新型公开了一种金属刻蚀装置，包括刻蚀设备和放电结构，刻蚀设备包括一腔体和用于对待刻蚀的半导体件进行刻蚀的刻蚀结构，半导体件位于腔体内，刻蚀结构安装于腔体上；放电结构包括放电组件和与放电组件电连接的自动点火结构，放电组件伸入到腔体内，且...
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