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本实用新型公开了一种半导体加工设备的反应腔室，涉及半导体技术领域，包括：反应腔体，反应腔体的顶部设置有介质窗支撑板；介质窗，与介质窗支撑板转动密封连接；驱动组件，用于驱动介质窗转动并能够调节介质窗的转速；具有由驱动组件驱动旋转的介质窗，能够...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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