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本发明涉及化学机械抛光组合物以及使用可用于抛光硅晶片的相同组合物对含有硅材料的基材进行化学机械抛光的方法。本发明具体涉及一种化学机械抛光组合物，其包含胶体二氧化硅磨粒、含氮化合物、螯合剂、阴离子聚合物，其特征在于所述胶体二氧化硅磨粒在组合物...
该专利属于昂士特科技（深圳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昂士特科技（深圳）有限公司授权不得商用。

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