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本发明涉及化学机械抛光组合物和用相同组合物对包含硅氧化物材料的基材进行化学机械抛光的方法。本发明尤其涉及包含二氧化铈磨粒的化学机械抛光组合物，所述磨粒的特征在于立方形态、在组合物中在1
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