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本文提供了用于在工件上形成沉积特征结构的方法、装置和系统。通常，本文的技术采用沉积头来限定促进电化学沉积的电场。可以采用其他系统和控制器，所述系统和控制器可有助于将所述沉积头对准或定位在工件附近并控制沉积特征结构的尺寸和位置。特征结构的尺寸...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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