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提供多带电粒子束描绘方法以及多带电粒子束描绘装置，能够在抑制阵列畸变的增加的同时解决由二次电子的空间滞留和偏转器电极带电产生的射束位置的变动。本实施方式的多带电粒子束描绘方法具备：形成向描绘对象的基板照射的多带电粒子束的工序；使上述多带电粒...
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