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低电阻率的封装基板及其制造方法技术
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文档序号:3719903
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一种方法,包括在封装基板的焊盘接触部(210)上形成涂层,所述涂层包括设置在第一层(230)和第二层(250)之间的第一材料(240),所述第一层和所述第二层中的每一层由包括金的第二材料制成。一种包括封装基板的装置,所述封装基板包括多个焊盘...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
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