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一种等离子体处理装置，它具有：在内部进行等离子体处理用的腔室（１）；由塞住所述腔室（１）的上侧的电介质构成的顶板（１５）；和作为通过所述顶板（１５）将高频供给所述腔室（１）内的高频供给部件的天线部（３）；在顶板（１５）内部具有反射部件（２３...
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