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本发明提供一种等离子淋浴器，能够产生中和用电子，用于在离子注入工艺中，在被注入晶片上产生的静电积累进行中和，提高离子注入工艺的性能，消除静电积累对注入晶片的危害。...
该专利属于北京中科信电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京中科信电子装备有限公司授权不得商用。

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